該設(shè)備主要適用于半導(dǎo)體硅片、磁性材料、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃、金屬材料及其它硬脆材料的雙面高精度高效率的拋光加工。

主要特點：
1、 該機(jī)采用四動拋光原理；二電機(jī)分別拖動上下拋盤、太陽輪、內(nèi)齒圈；PLC調(diào)整設(shè)定控制；文本顯示。
2、 高精密的氣動控制系統(tǒng)確保了工件壓力的準(zhǔn)確性。
3、 主要運動副采用了強(qiáng)制集中潤滑。
4、 拋光液系統(tǒng)具有獨立攪拌、循環(huán)水冷卻功能。
主要參數(shù)及加工能力：
1、 拋光拖動電機(jī)：5.5KW  380V  1440rpm。
2、 太陽輪拖動電機(jī)：1.5KW  380V  1440rpm。
3、 上拋盤規(guī)格：φ570mm×φ170mm×30mm。
4、 下拋盤規(guī)格：φ570mm×φ170mm×30mm。
5、 游輪參數(shù)：公制Z=117    M=2。
6、 游輪數(shù)量：4片。
7、 粗糙度：Rz0.3~Rz0.6
8、 最大拋光直徑：160mm。
9、 下拋盤轉(zhuǎn)速范圍：0—50rpm。
10、 需配備空氣源壓力：0.5—0.6Mpa
11、 下拋盤的端面跳動量：≤0.04mm。
12、 下拋盤的平面度：0.015 mm。
13、 設(shè)備外形尺寸：（長×寬×高）1400mm×1200mm×2400mm。
14、 重量：   約2800kg。