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中頻磁控濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點是
1.克服了陽極消失現(xiàn)象，
2.減弱或消除靶的異?；」夥烹?。因此，提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性，同時，提高了介質膜的沉積速率數(shù)倍。
匯成公司研發(fā)了平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。
東莞市匯成真空科技有限公司可根據(jù)用戶要求設計各種規(guī)格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控
系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進行設計配置。
詳情請致電我司13316689188 李國棟 經(jīng)理 http://www.suichenggd.cn